氮化鋁陶瓷坩堝：利用氮化鋁陶瓷耐腐蝕以及與熔融金屬不粘連的特性，可用於熔煉貴重金屬及制備單晶，本公司可根據用戶要求生產各種規格的氮化鋁基陶瓷容器。現有規格有外徑為10mm 高 10mm 壁厚 0.8-1mm。

AlN屬類金剛石氮化物，最高可穩定到2200℃。室溫強度高，且強度隨溫度的升高下降較慢。導熱性好，熱膨脹係數小，是良好的耐熱衝擊材料。抗熔融金屬侵蝕的能力強，是熔鑄純鐵、鋁或鋁合金理想的坩堝材料。氮化鋁還是電絕緣體，介電性能良好，用作電器元件也很有希望。砷化鎵表面的氮化鋁塗層，能保護它在退火時免受離子的注入。氮化鋁還是由六方氮化硼轉變為立方氮化硼的催化劑。

氮化鋁可用於作真空蒸發和熔煉金屬的容器，特別適於作真空蒸發鋁的坩堝，因為氮化鋁在真空中加熱蒸汽壓低，即使分解，也不會 污染鋁。氮化鋁也可以作熱電偶保護套，在空氣中 800——1000 ℃鋁池中連續浸泡 3000h以上也沒有侵蝕破坏。在半導體工業中，用 氮化鋁坩堝代替石英坩堝合成砷化稼，可以完全消除 Si對砷化稼的污染而得到高純產品。

該產品主要用於真空鍍膜設備中做鋁的蒸發源，如用來鍍紙、塑料、鍍膜玻璃、紡織品等，鍍鋁后產品用於包裝行業：各種商標（啤酒標、玻璃、激光防偽商標、燙金印刷商標等），各種包裝盒、保鮮鍍鋁軟包裝等；電子工業做各種用電容器、集成電路鍍膜、顯像管鍍膜，可提高質量和生產效率。