氮化铝陶瓷坩埚：利用氮化铝陶瓷耐腐蚀以及与熔融金属不粘连的特性，可用于熔炼贵重金属及制备单晶，本公司可根据用户要求生产各种规格的氮化铝基陶瓷容器。现有规格有外径为10mm 高 10mm 壁厚 0.8-1mm。

AlN属类金刚石氮化物，最高可稳定到2200℃。室温强度高，且强度随温度的升高下降较慢。导热性好，热膨胀系数小，是良好的耐热冲击材料。抗熔融金属侵蚀的能力强，是熔铸纯铁、铝或铝合金理想的坩埚材料。氮化铝还是电绝缘体，介电性能良好，用作电器元件也很有希望。砷化镓表面的氮化铝涂层，能保护它在退火时免受离子的注入。氮化铝还是由六方氮化硼转变为立方氮化硼的催化剂。

氮化铝可用于作真空蒸发和熔炼金属的容器，特别适于作真空蒸发铝的坩埚，因为氮化铝在真空中加热蒸汽压低，即使分解，也不会 污染铝。氮化铝也可以作热电偶保护套，在空气中 800——1000 ℃铝池中连续浸泡 3000h以上也没有侵蚀破坏。在半导体工业中，用 氮化铝坩埚代替石英坩埚合成砷化稼，可以完全消除 Si对砷化稼的污染而得到高纯产品。

该产品主要用于真空镀膜设备中做铝的蒸发源，如用来镀纸、塑料、镀膜玻璃、纺织品等，镀铝后产品用于包装行业：各种商标（啤酒标、玻璃、激光防伪商标、烫金印刷商标等），各种包装盒、保鲜镀铝软包装等；电子工业做各种用电容器、集成电路镀膜、显像管镀膜，可提高质量和生产效率。